碳化硅微粉如何調(diào)整研磨壓力
碳化硅微粉磨料研磨過(guò)程中，工件與研具的接觸面積由小到大，使當(dāng)?shù)卣{(diào)整研磨壓力，可以獲得較高的效率和較高的表面光潔度。今天小編為大家介紹的是碳化硅微粉調(diào)整研磨壓力的方法：
研磨的壓力不能太大。若研具硬度較高而研磨壓力太大時(shí)，磨粒很快被壓碎，使切削能力降低。特別是當(dāng)研具硬度較低而研磨壓力過(guò)大時(shí)，磨粒會(huì)被大量嵌進(jìn)研 具表面，使切削能力大大增強(qiáng)，但因研磨動(dòng)作加劇而導(dǎo)致工件和研具受熱變形，直接影響到研磨的質(zhì)量和研具的壽命。反之，研磨的壓力也不能太小，壓力太小會(huì)使 切削能力降低，同時(shí)生產(chǎn)效率也降低。在一定范圍內(nèi)，研磨壓力與效率成正比。
研磨壓力一般取0.1-5公斤/厘米?。一般手工粗研磨的壓力約為1-2公斤/厘米?；精研磨的壓力約為0.1-0.5公斤/厘米?。對(duì)于機(jī)動(dòng)研磨來(lái) 說(shuō)，因機(jī)床開(kāi)始啟動(dòng)時(shí)摩擦力很大，研磨壓力可調(diào)小些，在研磨進(jìn)行中，可調(diào)到某一定值，研磨終了時(shí)，為獲得高精度，研磨壓力可再減小些。實(shí)踐表明，在所用壓 力范圍內(nèi)，工件表面光潔度是隨著壓力的增加而降低。當(dāng)所用壓力范圍內(nèi)，工件表面光潔度是隨著壓力的增加而降低。當(dāng)研磨壓力在0.4-2公斤/厘米?范圍內(nèi) 時(shí)，對(duì)提高工件表面光潔度收效較為顯著。一般對(duì)較薄的平面工件，允許的大壓力以3公斤/厘米?為好。
